一、氢氟酸沉淀-真空脱水法。

将过量氢氟酸加到氯化铒或硝酸铒中，将其水溶液在水浴上蒸发、浓缩、冷却、结晶，即可制得三氟化铒的水合物。然后在真空中加热脱去结晶水。

氢氟酸浓度一般为40%～48%，它的消耗量是理论量的110%～120%。从水溶液中析出的氟化铒沉淀，必须用水充分洗涤，水洗采用倾泻法。过滤后的沉淀物在100～150℃下干燥，以脱去吸附水。得到只含结晶水的氟化物。为避免脱水中发生高温水解，生成氟氧化物ErOF，脱水过程需在真空中加热进行。真空度要高于0.133Pa，脱水温度不低于300℃。

二、另一种脱水方法就是将水合氟化铒放在干燥氟化氢气流中脱水,最终脱水温度为600～650℃。由于氢氟酸沉淀是在水溶液中进行的,故一般使用塑料反应容器,且脱水设备宜用耐高温腐蚀的材料,一般采用镍基合金材料制作。  

1、光学镀膜

2、光纤掺杂

3、激光晶体

4、激光放大器

5、交流电致发光器件

6、薄膜晶体

其中氟化铒薄膜晶体在空间光学、光通信、光谱仪、激光等大型光学系统中至关重要。其在光学性能中，有合适的光谱透光范围和折射率，在透光范围内有足够小的吸收等。在机械和化学稳定性方面要求镀膜材料机械性能稳定，对环境变化不敏感，内应力小，内部缺陷少。